無論是在光刻工藝、晶圓探測和測試，還是晶圓安裝和切割過程中，視覺對準不良都會在機器的整個使用壽命期間造成數以千計的對位損壞的晶圓。表現不佳的視覺系統會降低半導體設備公司的市場份額，大大增加其成本。

      PatMax技術為晶圓檢測、探測、安裝、切割和測試設備提供穩定、準確且快速的圖案定位，以幫助避免這些問題。PatMax使用獲得專利的幾何圖案發現算法來定位和對齊可變晶圓和晶粒圖案。它能以非常高的精度和可重復性對準晶圓和晶片，確保整個半導體制造流程中設備性能的可靠性。借助康耐視技術的幫助，OEM能夠優化設備的整體性能，從而提高質量和產量。